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簡要描述:●采用線掃描方式檢測整面薄膜●硬件&軟件均為創(chuàng)新設(shè)計●作為專業(yè)膜厚測定廠商,提供多種支援●實現(xiàn)高精度測量(已獲取專zhuan利)●實現(xiàn)高速測量●不受偏差影響●可對應(yīng)寬幅樣品(TD方向最大可測量10m)
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詳細介紹
品牌 | OTSUKA/日本大冢 |
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膜厚范圍 | 0.1~300 μm |
測量幅度 | 500 mm~最大10 m |
測定間隔 | 1 ms~ |
裝置大小(W×D×H) | 81×140×343 mm |
重量 | 4 kg(僅頭部) |
最大功耗 | AC100 V±10% 125VA |
500mm寬的包裝薄膜
上海波銘科學(xué)儀器有限公司主要提供光譜光電集成系統(tǒng)、晶萃光學(xué)機械和光學(xué)平臺、激光器、Edmund 光學(xué)元件、Newport 產(chǎn)品、濱松光電探測器、卓立漢光熒光拉曼光譜儀、是德 Keysight 電學(xué)測試系統(tǒng)、大塚 Otsuka 膜厚儀、鑫圖科研級相機、Semilab 半導(dǎo)體測試設(shè)備及高低溫探針臺系統(tǒng)。經(jīng)過多年的發(fā)展,上海波銘科學(xué)儀器有限公司在市場上已取得了一定的地位。我們的產(chǎn)品和服務(wù)在行業(yè)內(nèi)具有較高的知zhi名度和美譽度,客戶遍布全國。我們將繼續(xù)努力,不斷提升市場地位和影響力。
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