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簡要描述:OPTM 系列顯微分光膜厚儀 測量項目:? 絕.對反射率測量? 多層膜解析? 光學(xué)常數(shù)分析(n:折射率,k:消光系數(shù))
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詳細(xì)介紹
品牌 | OTSUKA/日本大冢 |
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• 使用顯微光譜法在微小區(qū)域內(nèi)通過絕.對反射率進(jìn)行測量,可進(jìn)行高精度膜厚度/光學(xué)常數(shù)分析。
• 可通過非破壞性和非接觸方式測量涂膜的厚度,例如各種膜、晶片、光學(xué)材料和多層膜。 測量時間上,能達(dá)到1秒/點(diǎn)的高速測量,并且搭載了 即使是初次使用的用戶,也可容易出分析光學(xué)常數(shù)的軟件。
• 頭部集成了薄膜厚度測量所需功能
• 通過顯微光譜法測量高精度絕.對反射率(多層膜厚度,光學(xué)常數(shù))
• 1點(diǎn)1秒高速測量
• 顯微分光下廣范圍的光學(xué)系統(tǒng)(紫外至近紅外)
• 區(qū)域傳感器的安全機(jī)制
• 易于分析向?qū)В鯇W(xué)者也能夠進(jìn)行光學(xué)常數(shù)分析
• 獨(dú)立測量頭對應(yīng)各種inline客制化需求
• 支持各種自定義
測量項目:
• 絕.對反射率測量
• 多層膜解析
• 光學(xué)常數(shù)分析(n:折射率,k:消光系數(shù))
OPTM 系列顯微分光膜厚儀
型號 | OPTM-A1 | OPTM-A2 | OPTM-A3 |
波長范圍 | 230 ~ 800 nm | 360 ~ 1100 nm | 900 ~ 1600 nm |
膜厚范圍 | 1nm ~ 35μm | 7nm ~ 49μm | 16nm ~ 92μm |
測定時間 | 1秒 / 1點(diǎn) | ||
光斑大小 | 10μm (小約5μm) | ||
感光元件 | CCD | InGaAs | |
光源規(guī)格 | 氘燈+鹵素?zé)?/span> | 鹵素?zé)?/span> | |
電源規(guī)格 | AC100V±10V 750VA(自動樣品臺規(guī)格) | ||
尺寸 | 555(W) × 537(D) × 568(H) mm (自動樣品臺規(guī)格之主體 部分) | ||
重量 | 約 55kg(自動樣品臺規(guī)格之主體部分) |
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