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簡(jiǎn)要描述:利用顯微微分光膜厚計(jì)OPTM series的高精度、微小光點(diǎn),在線提供制作晶片圖案后的微小區(qū)域測(cè)量等膜厚信息。
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詳細(xì)介紹
品牌 | OTSUKA/日本大冢 |
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●膜厚測(cè)量范圍1nm~92μm(換算為SiO2)
●膜厚值高重復(fù)精度
●1點(diǎn)1秒以?xún)?nèi)的高速測(cè)量
●最小小點(diǎn)Φ3μm)中瞄準(zhǔn)模式
●最zui適shi合圖案晶片的膜厚映射
●能夠取得圖案對(duì)準(zhǔn)用圖像
CMP工藝
蝕刻工藝
成膜工藝等
上海波銘科學(xué)儀器有限公司主要提供光譜光電集成系統(tǒng)、晶萃光學(xué)機(jī)械和光學(xué)平臺(tái)、激光器、Edmund 光學(xué)元件、Newport 產(chǎn)品、濱松光電探測(cè)器、卓立漢光熒光拉曼光譜儀、是德 Keysight 電學(xué)測(cè)試系統(tǒng)、大塚 Otsuka 膜厚儀、鑫圖科研級(jí)相機(jī)、Semilab 半導(dǎo)體測(cè)試設(shè)備及高低溫探針臺(tái)系統(tǒng)。經(jīng)過(guò)多年的發(fā)展,上海波銘科學(xué)儀器有限公司在市場(chǎng)上已取得了一定的地位。我們的產(chǎn)品和服務(wù)在行業(yè)內(nèi)具有較高的知zhi名度和美譽(yù)度,客戶(hù)遍布全國(guó)。我們將繼續(xù)努力,不斷提升市場(chǎng)地位和影響力。
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